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PVウェーハ洗浄が歩留まりを左右する要因に:RBリモートI/Oが主要パラメータの可視化と調整を可能に

PVウェーハ洗浄が歩留まりを左右する要因に:RBリモートI/Oが主要パラメータの可視化と調整を可能に

2024-11-27

ソーラー発電の製造において,ウエフルの清掃は,その後のコーティングと電気性能に直接的な影響を及ぼします.主にローカル I/O に基づく伝統的なアーキテクチャは,より多くのモニタリングポイントが遠隔診断やプロセスの最適化が必要です.

あるプロジェクトでは,ウエファークリーニングシステムでは,オムロン PLC + RB リモート I/O ソリューションを採用した. 3×RB-1110, 3×16DI, 3×16DO の構成,1×AIと1×AOは,機械の状態の集中監視と制御を可能にします水圧と化学物質濃度

デジタル入力と出力 追跡ドライブ,安全ドア,レベル,アラーム アナログチャネル 圧力,流れ,濃度信号を読み取るアナログ出力 制御バルブとポンプは,定義された動作窓内で清掃プロセスを保持するために.

RB リモコン I/O で,機器メーカーは:

  • 機械の周りに散らばったセンサーとアクチュエータを統一されたリモートステーションに統合する.

  • 将来のモニタリングポイントやレシピの最適化のために,主要な再配線なしで,I/O容量を予約する.

  • トレンド分析と根源調査のために,より高いレベルのシステムにデータを送信し,清掃の一貫性を向上させる.

これは,PVCメーカーがPLCプラットフォームを変更することなく,よりデータ駆動モードにウエファークリーニングセクションをアップグレードすることを可能にします.

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ソーラー発電の製造において,ウエフルの清掃は,その後のコーティングと電気性能に直接的な影響を及ぼします.主にローカル I/O に基づく伝統的なアーキテクチャは,より多くのモニタリングポイントが遠隔診断やプロセスの最適化が必要です.

あるプロジェクトでは,ウエファークリーニングシステムでは,オムロン PLC + RB リモート I/O ソリューションを採用した. 3×RB-1110, 3×16DI, 3×16DO の構成,1×AIと1×AOは,機械の状態の集中監視と制御を可能にします水圧と化学物質濃度

デジタル入力と出力 追跡ドライブ,安全ドア,レベル,アラーム アナログチャネル 圧力,流れ,濃度信号を読み取るアナログ出力 制御バルブとポンプは,定義された動作窓内で清掃プロセスを保持するために.

RB リモコン I/O で,機器メーカーは:

  • 機械の周りに散らばったセンサーとアクチュエータを統一されたリモートステーションに統合する.

  • 将来のモニタリングポイントやレシピの最適化のために,主要な再配線なしで,I/O容量を予約する.

  • トレンド分析と根源調査のために,より高いレベルのシステムにデータを送信し,清掃の一貫性を向上させる.

これは,PVCメーカーがPLCプラットフォームを変更することなく,よりデータ駆動モードにウエファークリーニングセクションをアップグレードすることを可能にします.